[原创]纯水系统在半导体化学清洗中的应用 [复制链接]

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纯水系统在半导体化学清洗中的应用 i~9)Hz
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硅片用酸、碱、氧化剂、络合剂、有机溶剂、净洗剂清洗后，会在硅片表面留有清洗剂的残液及反应的残物，如不及时除去，就可能导致杂质玷污而失去清洗的意义。因此，凡是用清洗剂洗过的硅片，必须用大量的纯水认真地进行冲洗，将残液残物冲净。化学清洗对水的纯度要求很高，若用纯度较低的水清洗硅片，水中的杂质可能导致硅片的沾污。因此这一切需要纯水系统的作用。 W6iIL
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纯水系统在半导体器件和集成电路的生产中，主要用于下列几个方面：一是用来清洗半导体材料、金属材料和生产用具和其他物品。二是用于溶液、腐蚀液、清洗液的配制，化学试剂的稀释等。三是用于二氧化硅膜的制备。在硅平面工艺中，高温下进行湿氧氧化，制备杂质扩散掩蔽膜、介质膜和绝缘栅等，也要用到高纯水。 3TtW2h
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另外，掩模版的制备、单晶和外延材料的制备、仪器设备的内部装置及零部件的清洗、电镀工序、某些材料的制备、管壳的清洗以及其他材料和物品的清洗处理等，均要用到纯水系统制备的纯水。 zKutx6=aj  
用纯度低的水清洗硅片，水中的杂质有可能被吸附在硅片表面上，从而造成沾污。若把含有少量的金属杂质的水用在生产硅单晶前的清洗中，会造成硅晶体材料特性变坏，严重时甚至影响结晶的完整性。用这样的硅材料去生产半导体器件，不仅影响器件的特性，还会使成品率下降。